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FlipFET™功率MOSFET

IR的新型FlipFET™封装内含了真正的芯片级封装技术,实现了新一代有着更高功率密度的超紧凑架构。 这装新式封装在世界上首次实现了功率MOSFET的100%硅/面积比,提供了可能实现的最小表面积、最低高度和最轻重量的解决方案。 在这种新型专有封装中,所有管脚均位于芯片的同一侧,因为芯片就是封装。 因此,漏电感以及其它与器件封装有关的损耗被降至最小或被消除。 使用这种新型 FlipFET封装,面积可达到仅为标准的基于功率硅片引线架的三分之一。

 


IR的优势所在

在相同的性能下,面积仅为标准SOIC封装的三分之一

由于采用IR的HEXFET沟道MOSFET技术,RDS(on)值极低
<0.8毫米的低间距
基本消除封装寄生元件
与标准SMT技术相兼容
经全面电测试,以带盘式供货
应用
智能电话
移动电话
MP3播放器
电池组
可移动高密度磁盘驱动器

 

产品编号
BVDSS
VGS
RDS(on)
TJ(最大值)
配置
-20V
± 12V
65mOhms
150°C
单 P
20V
± 12V
40mOhms
150°C
双 N,
共漏

 

应用笔记
AN-1011: FlipFET™ 元件的组装

技术论文

用于移动电话电池保护电路的双向lipFET™ MOSFET

为高流量SMT组装而设计的FlipFET™ MOSFET

芯片规模封装工艺增加手机通话时间

新一代晶圆级封装HEXFET®元件

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